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开拓市场的贸易平台和交流社区 |
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| 所在的位置：全球电源网 >> 产品库 >> 电池生产/检测设备>> 预压抽气机>>光刻机 |
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| 一、主要用途：
对晶片、陶瓷片、玻璃片（圆片或方片）的一次性曝光，特别适用于声表面波器件、光栅、分划板、可控硅等的曝光，二极管、三极管、分立元件的第一次光刻。 一、主要技术指标： 适用于Φ4"以下只需一次曝光的各种基片进行曝光，基片厚度要求0~5mm。光源采用200W直流汞灯，曝光头光束不均匀性≤+-6%（Φ100mm范围以内）。采用时间继电器（可调节）控制曝光头的快门。具有两个真空密着承片台（一个在曝光，另一个进行上下片）。根据用户需求可作圆形或方形真空密着承片台。 |
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